如何清洗保养单晶硅生产应用的超纯水设备？
什么是单晶硅呢?它是一种半导体材料，其导电能力介于导体和绝缘体之间，主要应用于太阳能电池行业。在单晶硅的生产过程我们要对其进行清洗，而清洗单晶硅时需要使用不含杂质的超纯水进行清洗，那么，超纯水设备就是一种可制备超纯水，出水电阻率高且不含任何杂质的设备。目前主要的超纯水系统设计的主要工艺为双级反渗透与EDI相结合的制水工艺，具有水利用率高，运行可靠，经济合理等特点。那么，制备单晶硅清洗用水的超纯水设备在长时间工作后，如果不定期进行维护，就很容易被污染，因此要对该设备进行“呵护”，才能保证设备出水水质符合要求。
如何，清洗保养超纯水设备?
1、将专用清洗液与纯净水在清洗药箱内混合。
2、用清洗泵低流量将清洗液以低流速、低压力打至膜系统，并排走原水，防止清洗液稀释。
3、保持设备温度稳定，用清洗泵将清洗液在系统中循环。
4、清洗液在设备内浸泡一小时即可，污染较严重的膜系统可进行更长时间的浸泡清洗。
5、用清洗泵大流量打入清洗液30—60分钟，使膜表面上被洗掉的污染物随高流速水冲走。
6、用清水将清洗液冲去。设备冲洗后的清水需要保证PH6.5-7.5之间。
综上，莱特莱德超纯水设备具有结构设计相对靠紧，占地面积小，应用范围广等特点，但只有定期清洗才能够能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，保证设备更长久的运行。
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