半导体材料清洗理想水如何实现？
半导体材料的导电性介于导体与绝缘体之间，在能源、通信、医疗、集成电路、家用电器、电子设备、计算机等多领域都有很大的应用价值。半导体材料在制造工艺、设备规范、原材料等多个方面都有极高的标准要求，产品清洗用水也以仅含有氢氧原子、无其他任何成分杂质的超纯水为最佳。超纯水由于纯净度高，用作清洗半导体材料能够避免污染成分或杂质对半导体产品质量的干扰。清洗半导体所用的超纯水可以采用超纯水设备来实现。超纯水设备通过双级反渗透系统+EDI模块+抛光混床系统的处理工艺，严格执行国家环保政策，可确保处理后的水质稳定达标。在制备超纯水过程中，该设备具有以下优势：
1.采用独有的靶向离子交换系统针对超纯水中难处理的硼及其他离子定向去除;
2.膜系统能够实现带电荷运行，离子迁移速度更快，脱盐效果更优;
3.采用PLC智能化程序，能灵活进行操作，人力投入节约;
4.系统运行无污染物析出，确保了系统内无死水;
5.采用新型均粒树脂包填充，高频电子极板形成强电场运行环境，有效提高脱盐率。
总的说来，超纯水设备能够达到出水连续、无酸碱再生、无人值守、安装简单、操作方便的理想质量。在各段处理工艺中，EDI模块优势显著。该模块处理不会产生酸碱废液，因此不需要再进行酸碱中和处理。EDI进水为二级反渗透产水，水质较好，脱盐后浓水水质仍旧能够优于一级反渗透产水，可回流至一级反渗透产水箱。整个工艺可以稳定进行连续工作，无需更换树脂，高度自动化作业更无需人工来操作。通过超纯水设备生产用来清洗半导体产品的超纯水品质高、无污染，是半导体行业中不可缺少的工具之一。
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