工业超纯水设备对促进半导体产业发展具有积极意义
半导体产业健康发展离不开高质量的超纯水支持。超纯水在半导体清洗、切割、蚀刻等加工工艺中发挥了关键作用。由于超纯水的纯度高，几乎除去了水分子之外的所有成分，它对产品质量基本无影响，能充分保障产品的功能可靠性。采用工业超纯水设备可以生产出质量可靠的超纯水。该设备采用了双级反渗透和EDI技术组成了核心生产工艺，生产出的超纯水纯度高、电阻率可达16 MΩ*cm(25℃)。反渗透膜是实现水中杂质和水分子分离的关键技术。反渗透膜拥有纳米级的膜孔径和强大的抗污染能力，原水经过加压驱动进入到反渗透膜中，其含有的有机物、金属离子、矿物质、细菌等就会被膜截留。反渗透膜的水渗透效果好，在保障水分子较大通量的同时，不易被杂质堵塞。
在反渗透之后使用EDI技术可以实现超纯水深度脱盐。EDI进水是二级反渗透产水，水质较好，脱盐后浓水水质仍旧能够优于一级反渗透产水，可回流至一级反渗透产水箱。
工业超纯水设备具有生产质量稳定、无酸碱再生、体积小、自动化强的优点。它还采用了智能化程序设计，操作更加灵活，可根据具体需求调整运行参数，方便快捷，能为半导体生产稳定供水。https://www.fanshentoum.com/
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